当前位置: X-MOL 学术Ind. Eng. Chem. Res. › 论文详情
Our official English website, www.x-mol.net, welcomes your feedback! (Note: you will need to create a separate account there.)
使用 NaBH4 溶液还原羰基和 α,β-不饱和羰基化合物的连续流工艺:实现 Luche 流还原
Industrial & Engineering Chemistry Research ( IF 3.8 ) Pub Date : 2024-04-15 , DOI: 10.1021/acs.iecr.3c04149
Vincent Bernardin 1 , Régis Philippe 1 , Laurent Vanoye 1 , Claude de Bellefon 1 , Alain Favre-Réguillon 1, 2
Affiliation  

使用NaBH 4 的羰基还原通常是有机合成和制药工业中常用的高产率和高选择性的过程。然而,该反应是放热的,并且NaBH 4溶液的稳定性有限,导致在间歇式反应器中在受控温度下反应时间长,大规模时成本高且能源密集。由于NaBH 4的溶解度低或NaBH 4溶液在质子溶剂中缺乏稳定性,该还原剂在流动合成中未得到充分利用。在这项工作中,首次报道了在连续先进流反应器中使用稳定的 NaBH 4溶液在 60 °C 的短停留时间内(20 至 80 秒)有效还原酮和醛。该方法还成功应用于在甲醇中存在氯化铈(III)的情况下对α,β-不饱和羰基化合物进行直接且易于处理的连续化学选择性还原(即Luche还原)。



"点击查看英文标题和摘要"

更新日期:2024-04-15
down
wechat
bug