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增强铁电薄膜压电性的新途径:控制 Pb(Zr, Ti)O3 单畴超晶格结构中的非平凡极化态

ACS Applied Materials & Interfaces ( IF 8.3 ) Pub Date : 2024-03-22 , DOI: 10.1021/acsami.3c18721
Jundong Song 1, 2 , Youhei Ebihara 1 , Petr Yudin 3 , Osami Sakata 4, 5 , Hitoshi Morioka 6 , Takanori Kiguchi 7 , Shinya Kondo 8 , Xueyou Yuan 1 , Soichiro Okamura 2 , Masahito Yoshino 1 , Takanori Nagasaki 1 , Tomoaki Yamada 1, 9, 10
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本研究从理论上和实验上研究了Pb(Zr 0.4 Ti 0.6 )O 3和Pb(Zr 0.6 Ti 0.4 )O 3人造超晶格薄膜的极化态和压电性能。所发展的理论预测在具有均匀压缩应变的(111)外延单畴超晶格薄膜中,沿着[001]和[111]方向的非平凡极化。这种薄膜是通过脉冲激光沉积获得的。当层厚度减小至3 nm时, d 33在100 kV/cm下变为128 ± 3.8 pm/V,在600 kV/cm下变为71.3 ± 2.83 pm/V,与(111)取向的Pb(Zr 0.4 )相当。 Ti 0.6 )O 3或Pb(Zr 0.6 Ti 0.4 )O 3块体明显超过典型的夹持薄膜。测量结果与理论分析一致,表明压电性的增强是由于非平凡极化的旋转造成的。此外,理论研究预测,对于具有均匀拉伸应变的超晶格薄膜的特定参数, d 33甚至会超过300 pm/V,这对于微机电系统的应用具有广阔的前景。




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更新日期:2024-03-22
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