CuO 薄膜由乙酰丙酮铜 (II) (Cu(acac)) 通过雾化学气相沉积 (mist-CVD) 方法制备，具体取决于制备溶液的 pH 值。根据使用碱性前体溶液的X射线衍射(XRD)测量，证实取向良好的CuO薄膜在主(111)峰处生长。所制备溶液的 pH 值极大地影响了 CuO 薄膜的表面形貌，前体溶液的 pH 值为 10 时，均方根 (RMS) 最低。共焦拉曼光谱证实了前体溶液的每个 pH 值都形成了立方 CuO 晶体结构。生长出的非常透明的氧化铜薄膜。样品 B 的吸收光谱在 1100 nm 处获得最高透射率 70%。使用 Tauc 方法测定 CuO 薄膜的光学能带隙，发现其在 2.53 至 2.49 eV 的范围内变化，表明发生了变化在材料的电子结构中。研究证明了所制备溶液的 pH 值在 CuO 薄膜生长中的关键作用。具体来说，我们发现较高的 pH 值会导致较高浓度的氢氧根离子 (OH)，这是生长过程中的关键因素。这些发现对于使用基于雾气化学气相沉积 (mist-CVD) 制备的 p 型 CuO 薄膜进行光电应用具有重要意义。



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