XPS 中用于深度分析的氩离子溅射会导致某些氧化物系统中氧气优先溅射。优先去除氧导致相关阳离子的化学还原，这可以在溅射后收集的光谱中观察到。表征不同溅射参数的影响并开发方法来解释和最小化溅射过程中化学态的变化，将使对溅射后观察到的化学态的定性和定量分析更有信心。在本研究中，使用单原子和簇状氩离子在热氧化的 NiO 上进行氩离子溅射。改变单原子和簇溅射的参数以观察它们对诱导还原的影响。结果表明，无论选择何种能量和电流，单原子溅射都会发生大量减少。对于簇氩离子溅射，当选择大簇尺寸或低簇能量时减少减少。观察到用低能量簇进行长时间溅射可去除表面污染物，但不会同时还原氧化镍。



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