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溶质原子偏析引起的界面 Kagome 晶格转变
Acta Materialia ( IF 8.3 ) Pub Date : 2024-02-10 , DOI: 10.1016/j.actamat.2024.119756
Peijun Yang , Hongbo Xie , Shanshan Li , Jinbo Zhu , Xiande Ma , Jianfeng Jin , Hucheng Pan , Yuping Ren , Yaping Zong , Weitao Jia , Gaowu Qin

溶质偏析引起的界面结构转变对材料的性能起着至关重要的作用。然而,由于其隐藏的性质,这些微转变通常很难揭示。在这里,在典型的镁-稀土模型系统中,我们利用原子在三种类型的部分相干倾斜晶界(GB)中发现了由溶质偏析与双晶晶格相互作用触发的界面 Kagome 晶格转变。 -分辨率扫描透射电子显微镜观察加上理论计算。结果表明,GB弹性应变的最小化是导致溶质在界面特定位点选择性偏析的原因,导致嵌入的三角形-四边形()晶格到拓扑六边形-三角形Kagome晶格原子改组的有限相变。此外,触发这种界面 Kagome 晶格转变的压力-温度条件也已确定。这些发现不仅丰富了 Kagome 晶格形成的转变路径,而且为研究多晶材料中溶质/杂质偏析引起的界面结构转变提供了一种自下而上的方法。



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更新日期:2024-02-10
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