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用于下一代非易失性存储器件的具有增强磁矩的 As 取代双层 α-In2Se3 中的二维多铁性材料
Advanced Electronic Materials ( IF 5.3 ) Pub Date : 2024-01-23 , DOI: 10.1002/aelm.202300642
Zhikuan Wang 1 , Ge Xu 1 , Xinxin Jiang 1 , Lei Yang 1 , Quan Gao 1 , Chong Li 2 , Dongmei Li 1 , Desheng Liu 1, 3 , Bin Cui 1
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寻找具有铁磁(FM)和铁电(FE)特性的多铁性材料有望实现超高密度和低能耗存储器件应用,但同时具有这两种特性的二维材料却很少见。在此,提出了通过空穴掺杂实现双层(BL) α -In 2 Se 3中磁性的非易失性电场控制的一般策略。通过第一性原理计算,证明空穴掺杂由于其独特的扁平墨西哥帽形价带结构,可以在双层α -In 2 Se 3中诱导出强大的铁磁性。这种能带边缘会导致范霍夫奇点(VHS),而适当的空穴掺杂会导致时间反转对称性破缺。双层α -In 2 Se 3在很宽的掺杂浓度范围内表现出铁磁性和铁电性,从而产生意想不到的多铁相。此外,当α -In 2 Se 3的电极化从下到上翻转时,As-取代双层α -In 2 Se 3中的铁磁态变为非磁性(NM) ,可以作为非易失性磁性材料。存储单元。值得注意的是,由于界面上大量的电荷转移,As 取代的双层α -In 2 Se 3表现出每 As Se 1.2 μB的增强磁矩。值得注意的是,电控磁性的机制被阐明为墨西哥帽色散、铁磁性和铁电性之间的耦合。这些发现为电写入和磁读取存储设备提供了一种有前景的策略。



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更新日期:2024-01-23
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