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Fmoc 的正交脱保护策略改进了敏感肽的合成:在 Z-Arg-Lys-AOMK 中的应用
ACS Omega ( IF 3.7 ) Pub Date : 2024-01-05 , DOI: 10.1021/acsomega.3c08629
Jehad Almaliti 1, 2 , Momen Alhindy 2 , Michael C. Yoon 3 , Vivian Hook 3, 4 , Tadeusz F. Molinski 2, 3, 5 , Anthony J. O’Donoghue 3 , William H. Gerwick 2, 3
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肽合成中的保护基团 (PG) 启发了先进的设计原则,其中结合了选择性 C 和 N 末端以及侧链脱保护的“正交性”。传统的酸稳定的 9-芴基甲氧基羰基 (Fmoc) 基团是固相和溶液合成中最广泛使用的 N-保护基团之一。尽管 Fmoc 具有多功能性,但通过去除 Fmoc 基团来脱保护以暴露伯胺需要使用碱性仲胺亲核试剂,但这种策略对带有反应性亲电子基团的敏感分子提出了挑战。在肽的后期合成中,PG 多功能性的扩展、可调节的正交性将增加合成设计和实施的灵活性。在这里,我们报道了一种在弱酸性条件下使用氢解的新型 Fmoc 脱保护方法,用于合成 Z-Arg-Lys-酰氧基甲基酮(ZRK-AOMK)。这种新方法不仅对于合成含有高活性亲电子试剂或其他类似敏感官能团的复杂肽的 Fmoc 脱保护有价值,这些复杂肽与传统的 Fmoc 脱保护条件不相容,而且还能耐受底物中存在的 N-Boc 基团。



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更新日期:2024-01-05
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