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控制溶剂蒸发对 P (VDF-HFP) 薄膜电活性相含量的影响
Polymer ( IF 4.1 ) Pub Date : 2024-01-02 , DOI: 10.1016/j.polymer.2024.126666
Siqi Zhang , Qi Lian , Xiaojia Zhao , Guirong Peng , Qi Wang

聚偏二氟乙烯基介电材料由于其铁电性能、高介电击穿强度和优异的加工性能,在高功率密度电能存储领域备受关注。然而,如何在PVDF中获得具有铁电和压电特性的高含量电活性相是一个关键挑战。目前,研究人员通过高能电子束或γ射线辐照以及压制折叠工艺制备了高含量电活性相的PVDF薄膜。本文采用控制溶剂蒸发法在不同环境温度下制备了P(VDF-HFP)薄膜。结果表明,随着环境温度的升高,薄膜的形貌变化不大。在低于110℃的环境温度下制备的PVDF薄膜中β相和γ相的总含量接近100%。在控制溶剂蒸发的条件下,随着环境温度的升高,P(VDF-HFP)中的微晶越来越完美。70℃制备的薄膜在100Hz的测试条件下介电常数为12.76,剩余极化为0.54μC/cm 2。所有这些结果都表明P(VDF-HFP)薄膜电活性相的形成与溶剂的蒸发过程和蒸发速率有关。





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更新日期:2024-01-07
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