当前位置: X-MOL 学术Small Methods › 论文详情
Our official English website, www.x-mol.net, welcomes your feedback! (Note: you will need to create a separate account there.)

通过叉指结构增强 GaN/Ga2O3 PN 结 UVc 光电探测器的性能

Small Methods ( IF 10.7 ) Pub Date : 2023-12-10 , DOI: 10.1002/smtd.202301148
Ziling Cai 1 , Xiyao He 1 , Kaikai Wang 1 , Xin Hou 1 , Yang Mei 1 , Leiying Ying 1 , Baoping Zhang 1 , Hao Long 1
Affiliation  


Ga 2 O 3基紫外-C光电探测器(UVCPD)被认为是目前最有前途的UVCPD,分为金属-半导体-金属(MSM)和PN结类型。与 MSM-PD 相比,PN-PD 由于内置电场而表现出优越的瞬态性能。然而,当前基于Ga 2 O 3的PN-PD缺乏对载流子收集和电场分布的考虑。在这项研究中,具有叉指n-Ga 2 O 3层和指状电极的PN-PD是在p-GaN/n-Ga 2 O 3外延层上制造的。实现了 31 µs(1/e 衰减)和 2.76 µs(快速分量)的超快响应时间,优于迄今为止所有的 Ga 2 O 3 UVC-PD。在0 V自供电下,由于载流子收集长度的增加,叉指电极结构增强了叉指PD的响应度(0.25 AW -1 )。在偏压下,通过增强Ga 2 O 3区域的内置电场,显着提高了叉指PD的性能,其响应度为41.7 AW -1 ,选择比为8243,分别是传统PD的34.76倍和39.4倍。还通过具有不同电极间距和周长的叉指PD来研究叉指结构的内在增强机制。总之,本文不仅报道了一种高性能的叉指结构p-GaN/n-Ga 2 O 3 UVCPD,而且还为基于Ga 2 O 3的PN-PD的结构设计提供了指导。




"点击查看英文标题和摘要"

更新日期:2023-12-10
down
wechat
bug