当前位置: X-MOL 学术Nucl. Sci. Tech. › 论文详情
Our official English website, www.x-mol.net, welcomes your feedback! (Note: you will need to create a separate account there.)
上海同步辐射装置EUV光刻胶评估能力最新进展
Nuclear Science and Techniques ( IF 3.6 ) Pub Date : 2023-12-11 , DOI: 10.1007/s41365-023-01351-8
Zhen-Jiang Li , Cheng-Hang Qi , Bei-Ning Li , Shu-Min Yang , Jun Zhao , Zhi-Di Lei , Shi-Jie Zhu , Hao Shi , Lu Wang , Yan-Qing Wu , Ren-Zhong Tai

评估极紫外 (EUV) 光刻胶的综合特性对于其在现代技术关键工艺 EUV 光刻中的应用至关重要。本文重点介绍了上海同步辐射装置 (SSRF) 08U1B 光束线在推进这一领域的能力。具体来说,它演示了该光束线如何使用基于同步加速器的 EUV 光刻在抗蚀剂上创建半节距为 15 nm 的条纹图案。这一成就对于评估先进 5 纳米节点的 EUV 光刻胶至关重要。我们详细介绍了 SSRF 08U1B 光束线用于评估 EUV 光刻胶的方法和实验装置。这项研究的一个重要部分涉及高分辨率氢倍半硅氧烷掩模光栅的制造。这些光栅的纵横比约为 3,是在创新掩模框架上使用电子束光刻技术创建的。该框架对于消除零级光对干涉图样的影响至关重要。所提出的框架提供了一种新的掩模制造方法,特别有利于消色差塔尔博特光刻和多相干光束干涉应用。





"点击查看英文标题和摘要"

更新日期:2023-12-12
down
wechat
bug