氮掺杂石墨烯（NDG）由于其稳定性高、合成工艺简单等优异性能，已广泛应用于电子器件、光电器件、催化剂等领域。目前，合成的NDG往往具有极其复杂的结构，例如各种氮类型和不同的孔结构。合成具有特定结构的NDG以实现其在特定领域的应用仍然具有挑战性。本文从理论计算的角度研究了石墨氮和吡啶氮共掺杂对NDG结构稳定性的影响。通过研究石墨-N和吡啶-N在不同多孔结构中的共掺杂，发现共掺杂有利于提高材料的稳定性。三角孔中石墨-N和吡啶-N的共掺杂是所有共掺杂结构中最稳定的结构。此外，我们分别研究了石墨-N、吡啶-N和共掺杂结构的氧还原反应（ORR）活性。发现共掺杂结构比石墨-N或吡啶-N掺杂结构具有更高的ORR活性。我们的研究为具有高ORR活性的NDG结构的合成提供了重要的理论指导。



"点击查看英文标题和摘要"