当前位置: X-MOL 学术Adv. Electron. Mater. › 论文详情
Our official English website, www.x-mol.net, welcomes your feedback! (Note: you will need to create a separate account there.)
使用基于忆阻 HfO2 的铁电隧道结探索内存中的多位逻辑
Advanced Electronic Materials ( IF 5.3 ) Pub Date : 2023-12-05 , DOI: 10.1002/aelm.202300618
Wonwoo Kho 1 , Hyunjoo Hwang 1 , Seung‐Eon Ahn 1, 2
Affiliation  

在物理上独立的冯·诺依曼架构(其中处理器和内存是不同的实体)中,对数据移动和能耗的需求不断增长,凸显了内存墙问题的严重性。因此,基于忆阻器的内存逻辑(LiM)引起了人们的极大兴趣,因为它是一种能够在单个设备中执行逻辑和内存功能的范例。铁电隧道结(FTJ)具有能耗低、可扩展性高等优点;因此,它们特别适合用作 LiM 中的模拟忆阻器。FTJ 中模拟电阻状态的精确编程对于实现高效的基于忆阻器的 LiM 设计至关重要。然而,现有的 FTJ 切换模型无法完全考虑铁电域切换,这对多位 LiM 操作提出了挑战。这尤其适用于涉及从一种中间电阻状态 (IRS) 更新到另一种 IRS 的情况,例如在 2 位 LiM 中从状态 01 转换到 10。在这项研究中,在 HZO FTJ 器件的 IRS 中观察到了与域切换相关的新现象,并将其应用于 LiM 实现。这些发现不仅可以提高基于 FTJ 的 LiM 的操作准确性和更新规则,还可以提高其他 FTJ 应用(例如交叉开关阵列)的操作准确性和更新规则。



"点击查看英文标题和摘要"

更新日期:2023-12-05
down
wechat
bug