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等离子体处理实现层状 MoS2 中的氧替代和室温中红外 (10 μm) 光响应

ACS Applied Materials & Interfaces ( IF 8.3 ) Pub Date : 2023-12-06 , DOI: 10.1021/acsami.3c11962
Jiahao Wu 1 , Shasha Li 2 , Ximiao Wang 1 , Yuan Huang 3 , Yifeng Huang 1 , Huanjun Chen 1 , Jun Chen 1 , Juncong She 1 , Shaozhi Deng 1
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越来越多的应用非常需要中红外(MIR,3-15 μm)高灵敏度光电探测器。然而,只有少数窄带隙半导体适合此用途,其中大多数需要低温冷却以提高信噪比。实现在室温下运行的高性能中红外光电探测器仍然是一个挑战。在此,我们报告了用于室温 MIR (10 μm) 光电检测的等离子体处理的几层 MoS 2 。采用氧等离子体处理,这是一种成熟的微加工工艺。氧等离子体的离子动能调整为70-130 eV。在中红外光(10 μm)照射下,平均功率密度为114.6 mW/cm 2 ,获得0.042 mA/W的光响应度和1.57 × 10 7 Jones的探测灵敏度。光响应归因于通过氧取代在MoS 2的带隙中引入电子态。石墨烯/等离子体处理的MoS 2 /石墨烯器件被进一步证明可以缩短活性通道,同时保持照明面积。光响应度和探测度分别大幅提升至 1.8 A/W 和 2.64 × 10 9 Jones。石墨烯/等离子体处理的MoS 2 /石墨烯器件的优异探测性能在单探测器MIR(10μm)扫描成像中得到进一步证明。这项工作提供了一种构建基于 MoS 2的集成 MIR 光电探测器的简便方法。




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更新日期:2023-12-06
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