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功能材料的 XPS 深度分析：离子束蚀刻技术的应用
Materials Chemistry Frontiers ( IF 6.0 ) Pub Date : 2023-11-17 , DOI: 10.1039/d3qm01036h
Dongying Li 1 , Yangfei Chen 1 , Chuanqiang Zhou 2 , Changrui Shi 1 , Zhiqiang Xu 1 , Zhengjie Miao 1 , Zheng Xi 1 , Jie Han 1
Materials Chemistry Frontiers ( IF 6.0 ) Pub Date : 2023-11-17 , DOI: 10.1039/d3qm01036h
Dongying Li 1 , Yangfei Chen 1 , Chuanqiang Zhou 2 , Changrui Shi 1 , Zhiqiang Xu 1 , Zhengjie Miao 1 , Zheng Xi 1 , Jie Han 1
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由于材料的化学成分与理化性质（或应用）之间的密切联系，功能材料的化学分析已成为当前材料科学中发展最深入的领域之一。X射线光电子能谱（XPS）作为一种成熟的表面分析技术在材料界发挥着重要而独特的作用。XPS 深度分析与离子束蚀刻方法相结合，是研究功能材料从表面到本体不同尺度化学成分的主要工具。本综述旨在向普通材料读者介绍离子蚀刻技术在 XPS 深度分析中的典型应用。根据溅射源，离子刻蚀技术可分为单原子离子束（MAIB）、气体团簇离子束（GCIB）和MAIB+GCIB模式，本文总结了这些模式在过去三十年取得的进展。介绍了三种刻蚀模式的实验实例，概括了它们的特点和应用领域。最后，讨论了离子刻蚀技术在材料XPS分析中的挑战和前景。
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更新日期：2023-11-17
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