动态气锁（DGL）是抑制极紫外（EUV）光刻机光学表面积碳的有效方法。然而，由于DGL内部流程的复杂性，相关的理论分析仍然不完整。本工作采用基于OpenFOAM平台的直接模拟蒙特卡罗（DSMC）方法来研究DGL和工程光学盒（POB）中稀薄气体的输运过程。扩展了 dsmcFoam + 求解器，并验证了其对 DGL 问题的适用性。结果表明，随着洁净气体流量的增加，POB中碳氢化合物的数密度呈指数下降，而DGL抑制率对晶圆腔内压力的变化不敏感。减小DGL的锥角、降低清洁气体的入口位置以及使用较高摩尔质量的清洁气体都有助于提高DGL对烃类扩散的抑制效果。另外，与DGL的高度有关：随着高度的增加，在距晶圆表面相同距离的情况下，抑制率升高；高度越高，碳氢化合物的数密度越大。这项研究有望为不同EUV光刻条件下的DGL技术设计提供指导。



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