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1H-MoS2 纳米片上 1T′-MoS2 纳米带的相控生长

Advanced Materials ( IF 27.4 ) Pub Date : 2023-11-07 , DOI: 10.1002/adma.202307269
Yongji Wang 1 , Wei Zhai 1 , Yi Ren 1 , Qinghua Zhang 2 , Yao Yao 1 , Siyuan Li 1 , Qi Yang 1 , Xichen Zhou 1 , Zijian Li 1 , Banlan Chi 1 , Jinzhe Liang 1 , Zhen He 1 , Lin Gu 3 , Hua Zhang 1, 4, 5
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二维异质结构正在成为传统半导体(例如硅、锗和氮化镓)的替代品,用于下一代电子学和光电子学。然而,二维异质结构的直接生长,特别是对于那些具有亚稳态相的异质结构,仍然具有挑战性。为了获得具有设计相的二维过渡金属二硫属化物(TMD),非常需要开发相控合成策略。在此,报道了一种简便的化学气相沉积方法来制备垂直的1H/1T'MoS 2异相结构。通过简单地改变生长气氛,半金属1T'-MoS 2可以在半导体1H-MoS 2顶部原位生长,形成具有尖锐界面的垂直半导体/半金属1H/1T'异相结构。基于1H/1T′MoS 2异相结构的集成器件表现出典型的整流行为,电流整流比约为10 3 。此外,基于1H/1T' MoS 2的光电探测器在532 nm处实现了1.07 AW -1的响应度和小于10 -11 A的超低暗电流。上述结果表明1H/1T' MoS 2异相结构可以成为未来整流器和光电探测器的有前途的候选者。重要的是,该方法可能为定制TMD相铺平道路,这可以帮助我们利用相工程策略来提高电子设备的性能。




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更新日期:2023-11-07
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