低能离子散射 (LEIS) 光谱测定法对于材料的最外层原子层非常敏感且具有特异性。它是表面科学的强大工具。在这里，我们提出了基于各种材料的实际 LEIS 光谱的 LEIS 光谱解释实用指南。虽然本文涵盖了 LEIS 的一些理论，但它并未对该技术的这方面进行详尽的描述。相反，它面向广大科学家群体，他们虽然不一定是 LEIS 仪器的活跃用户，但在研究中需要 LEIS，可能通过合作获得 LEIS 光谱或在科学文献中遇到它。我们提供的光谱/实验结果反映了 LEIS 的基本和高级特征。我们认为本指南相当全面。本文显示的大部分光谱是在现代高灵敏度 (HS)-LEIS 仪器上获得的。该仪器的分析仪定义并固定了 145° 的散射角。然而，这些结果代表了其他广泛使用的几何形状。这些光谱的特征非常普遍。这项工作涵盖的关键概念包括表面峰、促进再电离的元素、双重和多重散射/碰撞、参考材料的量化、污染的影响、颗粒和晶体材料/表面之间的差异、来自第二原子层的直接散射材料，以及不同一次离子（例如 He、Ne 和 Ar）的用途和效果。 本工作中显示和讨论的 LEIS 光谱来自不同的材料，包括原样、清洁和氧化的 Cu、硅橡胶、蒸发到 SiO、Al 上的 Ca、Cu 上的石墨烯、Fe、Rh、FeRh、CaF、天然氧化硅(SiO)、BeO、BO、BiSe、Teflon（聚四氟乙烯）、LiF、SrTiO、五种元素（Cr、Mn、Fe、Co 和 Ni）的合金以及 Au。其中许多材料具有重大的技术意义。



"点击查看英文标题和摘要"