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MoS2 中多个硫空位的电子传输
Current Applied Physics ( IF 2.4 ) Pub Date : 2023-10-27 , DOI: 10.1016/j.cap.2023.10.008 Minseon Gu , Moonsup Han , Seungchul Kim
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更新日期:2023-10-27
Current Applied Physics ( IF 2.4 ) Pub Date : 2023-10-27 , DOI: 10.1016/j.cap.2023.10.008 Minseon Gu , Moonsup Han , Seungchul Kim
我们对MoS 2中硫空位对电子结构和电子传输的影响进行了彻底的研究,特别是采用密度泛函理论(DFT)和非平衡格林函数(NEGF)方法对邻近的硫空位进行了研究。尽管原始 MoS 2表现出类似肖特基的行为,但在存在对齐空位的情况下出现了有趣的行为。即使在低偏置区域 (0.0–0.2 V),电流也会流过互连的带隙内态,但在较高电压下,电流会通过从缺陷态穿隧到导带 (CB)。负微分电阻(NDR)出现在电压的中间范围。通过系统地检查电流可以流动的空位间距,我们发现MoS 2带可以表现出随机的空位网络,能够在可行的空位浓度下调节电流,这意味着出现了渗透。这项研究为缺陷工程 MoS 2在新型电子应用中的潜力提供了宝贵的见解。
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