高纯石英 （HPQ） 的总杂质含量极低（<20 ppm，IOTA CG，Unimin 的 HPQ 标准），是许多高科技光电行业不可或缺的材料。虽然花岗岩承载的 HPQ 形成的控制因素尚未得到充分解决，但通常认为它与温度和压力有关，和/或特定的净化过程有关。在这里，我们分析了华南地区各种 HPQ 矿床中石英和白云母的化学成分。结果表明，白云母中的 F 含量和石英中的 Ti 含量为探索和表征花岗岩承载的 HPQ 提供了有用的指标。更具体地说，我们发现含有 F ≤ 0.100 wt% 的白云母的花岗岩有可能形成 4 个 N5 级 （SiO2 ≥ 99.995 wt%） HPQ，而那些 0.1-1 wt% F 的花岗岩能够产生 3 N- （SiO2 ≥ 99.900 wt%） 至 4 个 N5 级 HPQ。产生 4 N-（SiO2 ≥ 99.990 wt%）等级 HPQ 的理想石英结晶温度（石英中钛地温仪 （TitaniQ））为 420 至 490 °C。 花岗岩熔体中较高的 F 含量，这意味着较高的挥发物含量，会降低岩浆固相，并有助于杂质的掺入，例如晶格结合的 Ti-Al 和流体夹杂物。我们建议白云母和石英的原位分析支持快速评估花岗岩承载的 HPQ 的成矿潜力。



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