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解读二维 MoS2 的空位缺陷演化,打造可靠的晶体管
ACS Applied Materials & Interfaces ( IF 8.3 ) Pub Date : 2023-08-05 , DOI: 10.1021/acsami.3c07806 Li Gao 1 , Xiankun Zhang 1 , Huihui Yu 1 , Mengyu Hong 1 , Xiaofu Wei 1 , Zhangyi Chen 1 , Qinghua Zhang 2 , Qingliang Liao 1, 3 , Zheng Zhang 1, 3 , Yue Zhang 1, 3
ACS Applied Materials & Interfaces ( IF 8.3 ) Pub Date : 2023-08-05 , DOI: 10.1021/acsami.3c07806 Li Gao 1 , Xiankun Zhang 1 , Huihui Yu 1 , Mengyu Hong 1 , Xiaofu Wei 1 , Zhangyi Chen 1 , Qinghua Zhang 2 , Qingliang Liao 1, 3 , Zheng Zhang 1, 3 , Yue Zhang 1, 3
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二维(2D)MoS 2是下一代集成电路(IC)晶体管的优异候选沟道材料。然而,由于空位缺陷(例如硫空位(V S ))的严重威胁,MoS 2的可靠性受到极大关注。评估空位缺陷对MoS 2晶体管使用可靠性的影响至关重要,但一直受到系统跟踪和分析空位缺陷在使用环境中的变化和影响的困难的限制。在这里,建立了一个模拟引发剂来解释MoS 2中空位缺陷的演变及其对晶体管可靠性的影响。结果表明,低于 1.3% 的 V S是通过引发过程中缓慢富集而分离出来的。超过 1.3% 的 V S倾向于成对富集,超过 3.5% 的富集 V S很容易演变成纳米孔。沟道中电子掺杂的富集V S导致阈值电压 (V th ) 负漂移接近 6 V,而扩展的纳米孔则引发晶体管的 V th滚降和穿通。最后,提出了硫蒸汽沉积来限制V S富集,并构建了可靠的MoS 2晶体管。我们的研究提供了一种破译和识别缺陷影响的新方法。
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更新日期:2023-08-05
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