当前位置: X-MOL 学术Mater. Chem. Phys. › 论文详情
Our official English website, www.x-mol.net, welcomes your feedback! (Note: you will need to create a separate account there.)
通过电沉积研究锰铁氧化物薄膜的摩尔浓度依赖性结构、介电、磁性和形态行为
Materials Chemistry and Physics ( IF 4.3 ) Pub Date : 2023-07-23 , DOI: 10.1016/j.matchemphys.2023.128222
Hina Nazli , Amna Arshad , Zohra Nazir Kayani , Amir Razi

可持续发展目标(SDG 7)“负担得起的清洁能源”引起了研究人员对生产高效、廉价和环保材料的关注。在这项研究工作中,利用电沉积来生长锰铁氧化物薄膜。电沉积优于其他技术,因为它易于组装、成本低、非真空和室温技术。锰铁氧化物是最重要的尖晶石铁氧体之一。锰铁氧化物薄膜电沉积在铜 (Cu) 基板上。研究了电解质摩尔浓度(0.02 M、0.04 M、0.06 M、0.08 M 和 0.1 M)的变化。X 射线衍射仪 (XRD)、振动样品磁力计(VSM) 和阻抗分析仪已用于表征薄膜的结构、磁性和介电特性。观察到从非晶态(0.02 M 和 0.04 M)到立方态(0.06 M、0.08 M 和 0.1 M)的相移。对于 0.08 M 摩尔浓度的薄膜,观察到相对较大的晶格常数和微晶尺寸,分别为 8.412 Å 和 28 nm。电沉积薄膜具有正常的介电常数,并且本质上是铁磁性的。对于0.08M薄膜观察到饱和磁化强度为26.9emu/cm 3 。锰铁氧化物薄膜的非凡发现使其成为低成本自旋电子器件的潜在候选者。





"点击查看英文标题和摘要"

更新日期:2023-07-23
down
wechat
bug