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BiVO4 纳米颗粒改性 WO3 纳米片阵列通过逐步旋涂工艺提高光电化学性能
Ceramics International ( IF 5.1 ) Pub Date : 2023-07-16 , DOI: 10.1016/j.ceramint.2023.07.064
Weihao Wu , Zhehui Yan , Yongjin Zou , Lijun Wang , Xiangrong Zhu , GuiHong Liao , LuPing Zhu

采用水热法和后续的逐步旋涂工艺设计并制造了透明F掺杂SnO 2玻璃基板上的WO 3纳米片@BiVO 4纳米颗粒异质结构阵列(WO 3 @BiVO 4 HA)光电极。WO 3 NSs表面BiVO 4纳米粒子的尺寸和分布可以通过逐步旋涂循环的次数来调节。使用 SEM、UV-vis、TEM 和 XPS 来表征所获得的样品。PEC 性能可以通过控制逐步旋涂循环的次数来优化。光电化学(PEC)测量结果表明,WO 38次循环获得的@BiVO 4 HA光电极表现出更高的光电流密度(比裸WO 3纳米片阵列(NSA)光电极高约3.5倍)、更低的电荷转移电阻(从4019Ωcm 2 到904Ωcm 2)、改善的电子-空穴对寿命(从1到50.36毫秒),以及更高的单色光子到电子转换效率(从9到38.8%)。PEC性能的显着增强可能是由于增强的光捕获、与电解质的大接触面积以及通过协同能带结构、光电极的形貌以及BiVO 4 纳米粒子的合理修饰来改善电荷转移和分离。使用逐步旋涂工艺。





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更新日期:2023-07-16
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