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HfO2 纳米颗粒中氧空位的热激发光分析
Materials Research Bulletin ( IF 5.3 ) Pub Date : 2023-06-28 , DOI: 10.1016/j.materresbull.2023.112409
K. Laganovska , I. Bite , A. Zolotarjovs , E. Einbergs , V. Vitola , M. Dile , K. Smits

Hafnia 已在 CMOS 技术中作为一种高 k 金属栅极材料,然而,最近它也成为铁电应用中一种有前景的材料。在这项研究中,我们研究了未掺杂和 5at%Eu HfO 中的氧空位等固有缺陷2采用溶胶-凝胶法、燃烧法、自燃燃烧法、水热法和沉淀法合成。所有样品均为单斜晶相,晶粒尺寸为 16-40 nm。使用低于和高于室温的光致发光 (PL)、热刺激发光 (TSL) 以及XRD 和 TEM 方法来识别潜在的 VO3+1, VO3+2, VO4+1和视音频4+2缺陷。确定了氧空位的活化能并研究了晶界效应。观察到随着温度的升高,PL 和 TSL 波长峰值光谱均向更高能量移动。





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更新日期:2023-06-28
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