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原子图案控制间隙溶质对晶界的装饰
Nature Communications ( IF 14.7 ) Pub Date : 2023-06-15 , DOI: 10.1038/s41467-023-39302-x
Xuyang Zhou , Ali Ahmadian , Baptiste Gault , Colin Ophus , Christian H. Liebscher , Gerhard Dehm , Dierk Raabe

晶界,即不同取向晶体之间的二维缺陷,往往会优先吸引溶质进行偏析。溶质偏析对材料的机械和输运性能有显着影响。然而,在原子水平上,晶界结构和成分的相互作用仍然难以捉摸,特别是对于像 B 和 C 这样的轻质间隙溶质。在这里,我们使用与 B 和 C 合金化的 Fe 来利用界面结构和成分之间的强烈相互依赖性。通过电荷密度成像和原子探针断层扫描方法进行化学反应。晶界处光间隙溶质的直接成像和量化提供了对原子图案控制的装饰趋势的洞察。我们发现,即使具有相同的取向差的晶界平面的倾斜度发生变化也会影响晶界组成和原子排列。因此,最小的结构层次水平,即原子基序,控制着晶界最重要的化学性质。这一见解不仅弥补了此类缺陷的结构和化学成分之间缺失的联系,而且还能够对晶界的化学状态进行有针对性的设计和钝化,使它们摆脱作为腐蚀、氢脆或机械故障入口的作用。 。





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更新日期:2023-06-19
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