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在 750–900°C 的温度范围内探测 SiO2/Si 上 CVD 生长的单层 MoS2 中的硫空位
Journal of Electronic Materials ( IF 2.2 ) Pub Date : 2023-05-24 , DOI: 10.1007/s11664-023-10463-1
Rupika Tomar , Bo Hsu , Alejandro Perez , Michael Stroscio , Mitra Dutta

这项工作报告了在不同生长温度 (750–900°C) 下通过调整硫温度实现的具有相似应变的形态相似的高质量单层 MoS 2薄片。MoS 2的生长动力学与光致发光 (PL) 和拉曼峰位置的变化相关。使用化学气相沉积 (CVD) 在 750°C 至 900°C 的不同生长温度下合成单层 MoS 2晶体。我们检查了结构质量,旨在使用低温、可变和低激光强度 PL 测量来提取 MoS 2中的复合机制。我们对缺陷相关束缚激子发射的研究与 A 1g中的蓝移密切相关在 900°C 下生长的晶体的拉曼光谱模式、PL 光谱蓝移和 X 射线光电子能谱结果。我们的研究结果不仅揭示了一种彻底的、非侵入性的方法来修改生长参数以提高光学性能,而且还提出了一种在保持形态的同时修改 MoS 2的光学特性的方法。





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更新日期:2023-05-24
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