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二乙基锌溶液常压旋涂低温生长 ZnMgO 薄膜
Journal of Electronic Materials ( IF 2.2 ) Pub Date : 2023-05-12 , DOI: 10.1007/s11664-023-10475-x
Kenji Yoshino , Himeka Tominaga , Yuta Komaki , Masato Imai , Tomohiro Higashi , Takashi Minemoto , Qing Shen , Shuzi Hayase
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更新日期:2023-05-12
Journal of Electronic Materials ( IF 2.2 ) Pub Date : 2023-05-12 , DOI: 10.1007/s11664-023-10475-x
Kenji Yoshino , Himeka Tominaga , Yuta Komaki , Masato Imai , Tomohiro Higashi , Takashi Minemoto , Qing Shen , Shuzi Hayase
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使用通过常压常规旋涂法生长的二乙基锌基溶液,在室温下将非掺杂 ZnMgO 薄膜沉积在白色玻璃上,并在 150°C 下退火。该样品在可见光区的平均透光率大于85%,且为y轴取向的六方多晶,晶体致密,表面平坦。此外,n型样品是从由X射线光电子能谱引起的主要锌间隙中获得的。样品的电阻率为14×10 6 Ωcm,载流子浓度为3.9×10 11 cm -3,迁移率为5.0cm 2 (Vs) -1。
图形概要

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