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方铁锰矿结构 ScFeO3 的生长、微观结构和磁性能:体膜和薄膜的比较研究
Ceramics International ( IF 5.1 ) Pub Date : 2023-05-10 , DOI: 10.1016/j.ceramint.2023.05.086
Chuanlong Wang , Weihu Zhang , Qiang Li , Yu Xu , Anjiang Dong , Run Zhao , Shuibing Ge , Xiaodong Su , Rujun Tang

研究了块状和薄膜类型的 ScFeO 3的生长、微观结构和磁性能。结果表明,在1400℃以上的烧结温度下,可以获得单相方铁锰矿结构的块状ScFeO 3 。体相ScFeO 3具有显着的反铁磁特性,反铁磁尼尔温度T N约为-26 K。具有方铁锰矿结构的外延型ScFeO 3薄膜可以在SrTiO 3 (111)衬底上生长良好。ScFeO 3的磁性ScFeO 3 薄膜的饱和磁场低于0.4 T时,与块体材料相比,薄膜表现出显着的室温铁磁性。ScFeO 3薄膜的饱和磁化强度M S、剩磁M r、矫顽力H c随温度降低而增加,并有最大值M S  = 5.1 emu/cc, M r  = 1.5 emu/cc, H c = 29 mT at 5 K. ScFeO 3薄膜 的铁磁性应该是由薄膜/衬底界面处的界面失配应变引起的。这进一步证明了ScFeO 3的铁磁性可以通过包括应变在内的微观结构工程来稳定,从而使这种材料具有多功能特性。





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更新日期:2023-05-10
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