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通过 TiSi2 扩散率调节 CoSi2/TiSi2 异质结中的界面双组分超导性
Nanoscale ( IF 5.8 ) Pub Date : 2023-05-05 , DOI: 10.1039/d2nr05864b Shao-Pin Chiu, Vivek Mishra, Yu Li, Fu-Chun Zhang, Stefan Kirchner, Juhn-Jong Lin
Nanoscale ( IF 5.8 ) Pub Date : 2023-05-05 , DOI: 10.1039/d2nr05864b Shao-Pin Chiu, Vivek Mishra, Yu Li, Fu-Chun Zhang, Stefan Kirchner, Juhn-Jong Lin
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我们报告了在非磁性 CoSi 2 /TiSi 2超导体/普通金属平面异质结中具有主要三重态成分的增强界面双组分超导性的观察结果。这是通过检测 T 形邻近结的扩散正常金属组件中的奇频自旋三重偶偶校验库珀对来实现的。我们表明，通过修改普通金属部分的扩散率，转变温度增强可以调整高达 2.3 倍，而上临界场增加高达 20 倍。我们的数据表明 C49 相在受限几何结构中稳定的TiSi 2是这种增强的基础。这些发现通过Ginzburg-Landau 模型和准经典理论。我们还将我们的发现与 Sr 2 RuO 4中报道的神秘 3-K 相联系起来。
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更新日期：2023-05-05
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