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插层氧化:MoS2 改性策略,可光降解污染物
Applied Surface Science ( IF 6.3 ) Pub Date : 2023-04-20 , DOI: 10.1016/j.apsusc.2023.157316 Jiaqi Zhao , Tao E , Shuyi Yang , Liang Chen , Ruifeng Zhou , Jianhua Qian , Yun Li
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更新日期:2023-04-23
Applied Surface Science ( IF 6.3 ) Pub Date : 2023-04-20 , DOI: 10.1016/j.apsusc.2023.157316 Jiaqi Zhao , Tao E , Shuyi Yang , Liang Chen , Ruifeng Zhou , Jianhua Qian , Yun Li
MoS 2及相关改性材料作为矿化染料分子的核心技术越来越受到关注,将嵌入剂注入MoS 2层间以改变MoS 2层间距以获得具有理想光催化性能的材料是当前改性的趋势。在此,通过限氧煅烧制备插层氧化物材料(MSMO/T),通过简单地改变煅烧温度,可以有效地控制化学成分和所得结构以获得所需的光催化降解污染物的性能。由于MoS 2 -MoO 3的有益结构由氧嵌入形成,并与TiO 2形成Z型异质结,表现出优于单一材料的催化性能。具体而言,MoS 2在结构上经过设计并由氧嵌入层结合。无需外力推动,可在120 min内实现可见光下污染物的有效矿化降解,相关表征显示出优异的光电性能和长期耐久性,使其成为降解水中染料分子的高效催化剂。这项工作提供了一种高效便捷的方法来修饰过渡金属二硫化物,以用作光催化和其他应用的先进材料。
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