当前位置: X-MOL 学术Nanoscale › 论文详情
Our official English website, www.x-mol.net, welcomes your feedback! (Note: you will need to create a separate account there.)
用于具有超大光学调制的电致变色智能窗的层叠 NiO 纳米线/纳米片同质结构
Nanoscale ( IF 5.8 ) Pub Date : 2023-04-14 , DOI: 10.1039/d3nr01211e
Yi Gao 1 , Pengyang Lei 1 , Siyu Zhang 1 , Huanhuan Liu 1 , Chengyu Hu 1 , Zhu Kou 1 , Jinhui Wang 1 , Guofa Cai 1
Affiliation  

纳米级活性材料的结构工程对于提高电致变色器件的性能至关重要。然而,不充分的结构设计不可避免地导致电子/离子传输受限和电致变色性能不足。在此,提出了一种新型的层叠纳米线/纳米片同质结构,用于增强过渡金属氧化物薄膜的电致变色性能。受益于纳米线和纳米片结构的一锅式集成,具有独特同质结构的 NiO 薄膜在 550 nm 处提供高达 93.4% 的超大光学调制和 72.1 cm 2 C −1 的着色效率与 NiO 基材料相比。此外,该薄膜在 1000 次着色和漂白过程中保持其 91% 的光学调制。此外,通过将NiO薄膜与TiO 2离子存储层集成在具有电致变色和储能双重功能的组装智能窗中,验证了该器件的高性能。作为概念证明,太阳能电池与电致变色器件的集成展示了自供电智能窗户对于节能的重要意义。为此,这种电致变色薄膜的结构设计策略将为研究高性能电致变色系统提供独特的途径。



"点击查看英文标题和摘要"

更新日期:2023-04-14
down
wechat
bug