C60 稳定的 Cu+ 位点促进 CO2 电催化还原为 C2+ 产品,Advanced Energy Materials

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C60 稳定的 Cu+ 位点促进 CO2 电催化还原为 C2+ 产品
Advanced Energy Materials ( IF 24.4 ) Pub Date : 2023-04-04 , DOI: 10.1002/aenm.202204346
Bohang Zhao ₁ , Fanpeng Chen ₁ , Chuanqi Cheng ₁ , Li Li ₁ , Cuibo Liu ₁ , Bin Zhang ₁

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构建Cu ⁰ –Cu ⁺双活性位点对于CO ₂电催化还原过程中C–C偶联生成多碳产物具有重要意义。然而，基于Cu的前体（包括Cu ⁺）很容易被还原为Cu ⁰，尤其是在大电流密度下。因此，开发一种简便的 Cu ⁺稳定方法以形成 Cu ⁰ –Cu ⁺双活性位点是非常可取的，但也具有挑战性。在此，富勒烯 (C ₆₀ ) 用作电子缓冲器以稳定 Cu ⁺位点。然后，氧化铜和C _{60的复合物}前体旨在获得由原位形成的 Cu ⁰ –Cu ⁺双活性位点组成的催化剂。^{该催化剂不仅在 366 mA cm -2}的部分电流密度下提供高达 61% 的多碳 (C ₂₊ ) 产物法拉第效率，而且与可逆氢电极相比，在 -1.4 V 时还表现出良好的 Cu ⁺位点 12 小时耐久性. 此外，揭示了 Cu ⁰ –Cu ⁺双活性位点诱导 *CO 和 *CHO 优先偶联超过 *CO 二聚化，从而提高了 C ₂₊选择性。

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更新日期：2023-04-04

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