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Operando XAS和NAP-XPS研究Co3O4和CeO2-Co3O4催化剂上优先CO氧化的过程
Journal of Catalysis ( IF 6.5 ) Pub Date : 2016-09-24 09:45:01
Liliana Lukashuk, Karin Föttinger, Elisabeth Kolar, Christoph Rameshan, Detre Teschner, Michael Hävecker, Axel Knop-Gericke, Nevzat Yigit, Hao Li, Eamon McDermott, Michael Stöger-Pollach, Günther Rupprechter

Co 3 O 4是用于通过优先CO氧化(PROX)从H 2流中除去CO的有前途的催化剂。通常建议采用Mars-van-Krevelen氧化还原机理,但通常缺少对反应条件下催化活性表面氧化态的详细了解。因此,我们利用操作X射线吸收光谱法检查了PROX期间的结构和氧化态,以及在低光电子动能下接近大气压XPS的情况,从而检查了表面敏感度的高表面敏感性。纯CO的表面还原非常容易(已经从〜100°C开始)和O 2易于再氧化这表明分子吸附的CO与晶格氧反应,晶格氧由气相O 2补充。然而,即使对于XPS检测,反应条件下氧空位的稳态浓度也太低,以至于在PROX过程中Co 3 O 4的体积和表面都被完全氧化。另外,研究了向C 3 O 4中添加CeO 2(活性物质少)的效果。用10wt%的CeO 2促进Co 3 O 4可以提高CO和H 2的还原温度并增强PROX活性。从CeO 2开始 由于是活性较低的材料,这只能由Co-O-Ce界面的较高活性来解释。



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更新日期:2016-09-25
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