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氧在 Al2TiO5 基化学气相沉积涂层空位诱导相形成和结晶中的作用
The Journal of Physical Chemistry C ( IF 3.3 ) Pub Date : 2023-03-27 , DOI: 10.1021/acs.jpcc.2c08570
Sebastian Öhman 1 , Axel Forslund 2 , Rebecka Lindblad 3 , Gyula Nagy 4 , Peter Broqvist 5 , Elin Berggren 3 , Fredrik O. L. Johansson 6, 7 , Tobias Törndahl 8 , Daniel Primetzhofer 4 , Mats Boman 1
The Journal of Physical Chemistry C ( IF 3.3 ) Pub Date : 2023-03-27 , DOI: 10.1021/acs.jpcc.2c08570
Sebastian Öhman 1 , Axel Forslund 2 , Rebecka Lindblad 3 , Gyula Nagy 4 , Peter Broqvist 5 , Elin Berggren 3 , Fredrik O. L. Johansson 6, 7 , Tobias Törndahl 8 , Daniel Primetzhofer 4 , Mats Boman 1
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氧是一种通常被忽视的元素，它会影响许多金属氧化物的性质。通过结合几种原位分析技术和理论计算，我们证明氧气在 Al 2 TiO 5基化学气相沉积涂层的相形成和结晶中起着至关重要的作用。卢瑟福背散射光谱法 (RBS) 证实了结晶过程中的多晶型转变。随后的硬 X 射线光电子能谱 (HAXPES) 表明结晶是通过置换（无扩散）机制发生的。结合理论计算，Al 2 TiO 5、Al 6 Ti 2 O的结晶共生成13和 Al 16 Ti 5 O 34被认为是由氧离子的迁移及其相应的空位驱动的。
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更新日期：2023-03-27
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