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单线态氧诱导的位点特异性蚀刻促进氮碳位点以实现高效氧还原
Angewandte Chemie International Edition ( IF 16.1 ) Pub Date : 2023-03-21 , DOI: 10.1002/anie.202303409 Guanying Ye 1 , Suqin Liu 1, 2 , Kuangmin Zhao 1 , Zhen He 1, 2
Angewandte Chemie International Edition ( IF 16.1 ) Pub Date : 2023-03-21 , DOI: 10.1002/anie.202303409 Guanying Ye 1 , Suqin Liu 1, 2 , Kuangmin Zhao 1 , Zhen He 1, 2
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单线态氧 ( 1 O 2 ) 专门针对 N-相邻原子并作为蚀刻剂实现与 N-掺杂剂相邻的拓扑碳缺陷的位点特异性蚀刻，从而提高 N−C 位点的本征催化活性得到的 N 掺杂碳 ( 1 O 2 -N/C)。在迄今为止报道的所有无金属碳催化剂中， 1 O 2 -N/C 对氧还原反应的半波电位最高，为 0.915 V RHE 。
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更新日期：2023-03-21
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