当前位置：
X-MOL 学术
›
Nanomaterials
›
论文详情
Our official English website, www.x-mol.net, welcomes your
feedback! (Note: you will need to create a separate account there.)
沉积后处理对 ALD Al 掺杂 ZnO 薄膜性能的影响
Nanomaterials ( IF 4.4 ) Pub Date : 2023-02-22 , DOI: 10.3390/nano13050800
Dimitrina Petrova, Blagovest Napoleonov, Chau Nguyen Hong Minh, Vera Marinova, Yu-Pin Lan, Ivalina Avramova, Stefan Petrov, Blagoy Blagoev, Vladimira Videva, Velichka Strijkova, Ivan Kostadinov, Shiuan-Huei Lin, Dimitre Dimitrov
Nanomaterials ( IF 4.4 ) Pub Date : 2023-02-22 , DOI: 10.3390/nano13050800
Dimitrina Petrova, Blagovest Napoleonov, Chau Nguyen Hong Minh, Vera Marinova, Yu-Pin Lan, Ivalina Avramova, Stefan Petrov, Blagoy Blagoev, Vladimira Videva, Velichka Strijkova, Ivan Kostadinov, Shiuan-Huei Lin, Dimitre Dimitrov
在本文中，采用原子层沉积（ALD）技术生长铝掺杂氧化锌（ZnO:Al 或 AZO）薄膜，并研究了沉积后紫外-臭氧和热退火处理对薄膜性能的影响。 X射线衍射（XRD）揭示了具有优选（100）取向的多晶纤锌矿结构。观察到热退火后晶体尺寸增加，而紫外线-臭氧暴露没有导致结晶度发生显着变化。 X射线光电子能谱（XPS）分析结果表明，经UV-臭氧处理后的ZnO:Al中存在较多的氧空位，而退火后的ZnO:Al中的氧空位含量较低。 。 ZnO:Al（例如透明导电氧化物层）的重要和实际应用被发现，其电学和光学特性在沉积后处理后，特别是在紫外线-臭氧暴露后表现出高可调性，提供了一种非侵入性且简单的方法来降低薄层电阻价值观。同时，紫外-臭氧处理并未对AZO薄膜的多晶结构、表面形貌或光学性能造成任何显着变化。
"点击查看英文标题和摘要"
更新日期：2023-02-22
"点击查看英文标题和摘要"
京公网安备 11010802027423号