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揭示基于聚丙烯酸酯硅酯的防污涂料的抛光过程和机制:分子动力学研究
Applied Surface Science ( IF 6.3 ) Pub Date : 2023-03-08 , DOI: 10.1016/j.apsusc.2023.156949 Jia Cheng , Wen Li , Tengfei Liu , Chunfeng Zhang , Lin Cao , Shougang Chen
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更新日期:2023-03-11
Applied Surface Science ( IF 6.3 ) Pub Date : 2023-03-08 , DOI: 10.1016/j.apsusc.2023.156949 Jia Cheng , Wen Li , Tengfei Liu , Chunfeng Zhang , Lin Cao , Shougang Chen
自抛光涂层 (SPC) 可以更新其表面,从而防止海洋污垢的粘附。为了阐明分子机制,在这项工作中,进行了分子动力学 (MD) 模拟,以模拟典型的丙烯酸三异丙基甲硅烷基酯 (TIPSA) 的抛光过程。结果表明,TIPSA 较差的静态防污性能是由于水解侧基(甲硅烷基)在强范德华力(vdW)非键相互作用下自发吸附到涂层表面所致。水解的甲硅烷基与涂层表面界面处水分子的渗入促进了抛光过程。然而,当渗透的水分子数不足以屏蔽非键相互作用时,水解的甲硅烷基可以再次吸附在树脂基体上。水解甲硅烷基层中水通道的形成进一步限制了抛光过程。此外,树脂基体表面亲水基团的不均匀分布对TIPSA涂层的抛光过程也有重要影响。这项工作加深了我们对 SPC 抛光过程和机制的理解,并可能为进一步理解防污机制开辟新的方向。
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