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工业级电流密度下硫掺杂导致镍铁氧体纳米锥中低价镍位置标度关系的破坏用于水氧化
Chemical Engineering Journal ( IF 13.3 ) Pub Date : 2023-02-04 , DOI: 10.1016/j.cej.2023.141714
Hai-Jun Liu , Ren-Ni Luan , Lu-Yao Li , Ren-Qing Lv , Yong-Ming Chai , Bin Dong

双金属/多金属催化剂中活性中心的微观结构长期以来一直围绕析氧反应 (OER) 展开争论。在这里,通过可扩展的水热法制备铁泡沫上的硫掺杂 NiFe 2 O 4纳米锥阵列 (S-NiFe 2 O 4 /IF)。有利的 3D 纳米锥阵列可以提供大的电化学表面积,并允许有效的电解质进入和 O 2逃脱。物理表征证实,在这种 S 掺杂双金属催化剂中,四面体位点中的低价 Ni 原子比高价 Fe 原子更具活性。同时,DFT计算进一步验证了S的引入增强了水的吸附和离解,优化了OER中间体在Ni位点的吸附。因此,最优的S-NiFe 2 O 4 /IF在仅310 mV的过电位下达到工业级500 mA cm -2并在碱性介质中保持100 h。此外,将S-NiFe 2 O 4 /IF集成到阴离子交换膜水电解槽中可以在1.79 V时提供1.0 A cm -2的电流密度。





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更新日期:2023-02-04
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