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Graphitic Carbon Nitride Based Materials Towards Photoproduction of H2O2
ChemPhotoChem ( IF 3.0 ) Pub Date : 2022-12-28 , DOI: 10.1002/cptc.202200299 Hoai-Thanh Vuong 1 , Dai-Phat Bui 2 , Duc-Viet Nguyen 3 , Ly Pho Phuong 4 , Phan Pham Duc Minh 4 , Tran Do Dat 4 , Nguyen Huu Hieu 5
ChemPhotoChem ( IF 3.0 ) Pub Date : 2022-12-28 , DOI: 10.1002/cptc.202200299 Hoai-Thanh Vuong 1 , Dai-Phat Bui 2 , Duc-Viet Nguyen 3 , Ly Pho Phuong 4 , Phan Pham Duc Minh 4 , Tran Do Dat 4 , Nguyen Huu Hieu 5
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A new view: In recent decades, there has been considerable interest in graphitic carbon nitride (g-C3N4) based materials for producing fine chemicals by means of photocatalysis. This review provides an overview of state-of-the-art studies on the photocatalytic generation of H2O2 from 2014 to date. The review discusses strategies to modify g-C3N4 to enhance H2O2 photoproduction, including single- and multi-element doping, defect engineering, morphological modifications, as well as the application of junction-based photocatalysts, and provides an outlook on the field with a view to overcoming challenges and obstacles faced.
中文翻译：
石墨氮化碳基材料用于光生产 H2O2
新观点：近几十年来，人们对用于通过光催化生产精细化学品的石墨碳氮化物 (gC 3 N 4 ) 基材料产生了相当大的兴趣。本综述概述了2014 年至今光催化生成 H 2 O 2的最新研究。该评论讨论了修改 gC 3 N 4以增强 H 2 O 2的策略光生产，包括单元素和多元素掺杂、缺陷工程、形态修饰，以及基于结的光催化剂的应用，并提供该领域的展望，以期克服所面临的挑战和障碍。
更新日期：2022-12-28
中文翻译：
石墨氮化碳基材料用于光生产 H2O2
新观点：近几十年来，人们对用于通过光催化生产精细化学品的石墨碳氮化物 (gC 3 N 4 ) 基材料产生了相当大的兴趣。本综述概述了2014 年至今光催化生成 H 2 O 2的最新研究。该评论讨论了修改 gC 3 N 4以增强 H 2 O 2的策略光生产，包括单元素和多元素掺杂、缺陷工程、形态修饰，以及基于结的光催化剂的应用，并提供该领域的展望，以期克服所面临的挑战和障碍。
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