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当前和未来应用的可扩展六方氮化硼 (h-BN) 合成综述
Advanced Materials ( IF 27.4 ) Pub Date : 2022-11-03 , DOI: 10.1002/adma.202207374
Andrew E Naclerio 1 , Piran R Kidambi 1, 2, 3
Advanced Materials ( IF 27.4 ) Pub Date : 2022-11-03 , DOI: 10.1002/adma.202207374
Andrew E Naclerio 1 , Piran R Kidambi 1, 2, 3
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六方氮化硼 ( h -BN) 是一种层状无机合成晶体,具有高温稳定性和高导热性。作为一种陶瓷材料,它已广泛用于热管理、隔热、润滑以及作为结构复合材料的填充材料。从层状范德瓦尔斯晶体中分离出原子级薄单层以研究其独特性质的最新科学进展推动了对单层/少层h -BN 作为纳米电子、隧道势垒、通信、中子探测器、光学的宽带隙绝缘支持的研究兴趣、传感、新型分离、缺陷的量子发射等。实现这些未来应用取决于可扩展的具有成本效益的高质量h-BN合成。在这里,作者回顾了高质量单层/多层h- BN 合成的可扩展方法,讨论了每种方法的挑战和机遇,并将它们与新兴应用的相关性结合起来。随着原子结合到生长的层状晶体中,保持化学计量平衡 B:N = 1 并在多层合成过程中保持层间堆叠顺序成为h -BN 合成和开发工艺以解决这些方面的一些主要挑战可以告知和指导具有多个组成元素的其他层状材料的合成。最后,作者通过技术路线图将h -BN 合成工作与新兴应用的质量要求结合起来。
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更新日期:2022-11-03

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