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Mg 掺杂 p 型 MoS2/GaN 光电探测器中的电荷再分布
The Journal of Physical Chemistry C ( IF 3.3 ) Pub Date : 2022-11-01 , DOI: 10.1021/acs.jpcc.2c05895 Ben Cao 1, 2 , Shufang Ma 1 , Wenliang Wang 2 , Xin Tang 2 , Dou Wang 1 , Weikang Shen 1 , Bocang Qiu 1 , Bingshe Xu 1 , Guoqiang Li 1, 2, 3
The Journal of Physical Chemistry C ( IF 3.3 ) Pub Date : 2022-11-01 , DOI: 10.1021/acs.jpcc.2c05895 Ben Cao 1, 2 , Shufang Ma 1 , Wenliang Wang 2 , Xin Tang 2 , Dou Wang 1 , Weikang Shen 1 , Bocang Qiu 1 , Bingshe Xu 1 , Guoqiang Li 1, 2, 3
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具有增强的内置电场的MoS 2 /GaN p-n 异质结光电探测器为纳米电子和纳米光电应用铺平了道路。然而,由于p型MoS 2 的制备过程复杂且不稳定,p型MoS 2 /n型GaN p-n异质结构的实现仍然具有挑战性。在此,Mg掺杂的p型MoS 2 /GaN p-n异质结通过电子束蒸发和化学气相沉积两步法合成。基于密度泛函理论的第一性原理计算表明,取代的镁原子会产生大量的空穴。与无意掺杂的器件相比,Mg掺杂的p型MoS 2/GaN 异质结具有反向的内部电场,在 365 nm 和 2 V 下的响应度为 260 mA/W,并且响应速度快(在 365 nm 和 2 V 下的上升/下降时间 <20/20 ms)。因此,本研究提出了一种制备用于纳米电子和纳米光电器件的p 型 MoS 2 /GaN 异质结的有效策略。
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更新日期:2022-11-01
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