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使用第一性原理研究研究垂直排列的 WS2/MoS2 异质结中缺陷的稳定性和作用对 OER 活性的影响
Journal of Power Sources ( IF 8.1 ) Pub Date : 2022-10-10 , DOI: 10.1016/j.jpowsour.2022.232208
Asad Mahmood , Guanhong Lu , Xiao Wang , Yan Wang , Xiaofeng Xie , Jing Sun
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基于二维 (2D) 过渡金属硫化物 (TMD) 的范德华 (vdW) 异质结构在光学和电气器件中具有重要的技术意义。在本报告中,使用第一性原理计算,我们发现 vdW WS2/MoS2 异质结构中的诱导缺陷可用于改变电子结构和光催化性能。例如,当 S 或 Mo/W 缺陷以空位或吸附原子的形式掺入时,WS2/MoS2 异质结构的带隙会发生显着变化。此外,空位的存在改善了 WS2 和 MoS2 层之间的相互作用,从而促进了电荷转移和光学特性。此外,析氧反应 (OER) 研究表明,WS2/MoS2 异质结构中存在缺陷改善了整个 OER 过程。尽管 S 缺陷在热力学上更稳定,但掺入 Mo 缺陷会提高 OER 活性。例如,当 WS2/MoS2 中加入一个 Mo 空位时,观察到过电位 (ƞ = 1.48 V) 比干净的 WS2/MoS2 配置 (ƞ = 2.15 V) 显著降低。本研究详细探讨了各种缺陷在 2D WS2/MoS2 vdW 异质结构中的作用,可用于实现各种光学和电气应用的新特性。

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