当前位置: X-MOL 学术Int. J. Adv. Manuf. Technol. › 论文详情
Our official English website, www.x-mol.net, welcomes your feedback! (Note: you will need to create a separate account there.)
旋涂法沉积自清洁二氧化钛薄膜的研究进展
The International Journal of Advanced Manufacturing Technology ( IF 2.9 ) Pub Date : 2022-09-24 , DOI: 10.1007/s00170-022-10043-3
Valantine Takwa Lukong , Kingsley Ukoba , Tien-Chien Jen

本文回顾了使用旋涂机沉积用于自清洁应用的 TiO 2薄膜的沉积。全球对电力的巨大需求促使电力生产商开发替代能源。太阳能、风能、潮汐能、地热能和水力发电等可再生能源现在被考虑作为替代能源。地球上最丰富的形式是太阳能,使用太阳能电池板将其转化为电能。遗憾的是,太阳能电池板一旦暴露在大气中就会吸引污染物,导致其效率下降。自清洁是帮助保持清洁光伏表面的研究技术之一。二氧化钛(TiO 2) 是研究用于自清洁的材料之一,旋涂方法具有很大的前景。本文介绍了旋涂机的背景和工作原理,旋涂工艺的注意事项,以及该工艺的优缺点。该论文强调了自清洁机制和旋涂方法来制造自清洁 TiO 2薄膜,以应用于包括太阳能电池板在内的多个表面。还回顾了常用的自清洁材料,包括用于掺杂或制造 TiO 2复合材料以获得更好的自清洁能力的材料。工艺参数、可用基材、表面活性剂、溶剂和稳定剂对最终 TiO 2的影响回顾了薄膜性能和最近改进旋涂工艺和 TiO 2自清洁能力的创新努力。这将有助于形成关于旋涂技术、自清洁薄膜和 TiO 2的知识体系。





"点击查看英文标题和摘要"

更新日期:2022-09-24
down
wechat
bug