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炔基缺陷二苯并[b,d]噻吩-砜基共轭微孔聚合物的可控构建以提高光催化性能
Journal of Catalysis ( IF 6.5 ) Pub Date : 2022-09-15 , DOI: 10.1016/j.jcat.2022.09.003
Jie Xiao , Xianlong Liu , Xiaokai Gao , Jinghui Hu , Lun Pan , Chengxiang Shi , Xiangwen Zhang , Ji-Jun Zou

缺陷工程是一种调节能带和电子结构以及材料性能的通用方法。目前,已经进行了更多的研究来通过调节结构缺陷来提高有机光催化剂的催化性能。在此,我们通过分子设计构建了具有炔基缺陷的二苯并[b,d]噻吩-砜基共轭微孔聚合物(CMPs)。进一步探讨了炔基缺陷浓度对所制备样品的光学带隙、能级结构、电荷分离和光活性的影响。结合第一性原理密度泛函理论(DFT)计算和实验结果,炔基缺陷的引入加速了光生电荷载流子的分离。此外,CMP中炔基缺陷的浓度可以通过1,3-二乙炔苯(MEB)的用量来调节,从而调节电子结构和电荷载流子分离性能。在合适的炔基缺陷浓度下,所制备的Defect-TD-2对H的可见光光催化性能更高。2生产和污染物降解。因此,这项工作显示了一种有效的自我修饰策略,可提高 CMP 的光活性。





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更新日期:2022-09-17
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