当前位置：
X-MOL 学术
›
Appl. Surf. Sci.
›
论文详情
Our official English website, www.x-mol.net, welcomes your
feedback! (Note: you will need to create a separate account there.)
磁控溅射制备N掺杂Ga2O3薄膜顶层及其性能
Applied Surface Science ( IF 6.3 ) Pub Date : 2022-08-27 , DOI: 10.1016/j.apsusc.2022.154666
Ning Zhang , Yongsheng Wang , Zihao Chen , Bin Zhou , Jie Gao , Yanxia Wu , Yong Ma , Hongjun Hei , Shengwang Yu
"点击查看英文标题和摘要"
更新日期：2022-08-28
Applied Surface Science ( IF 6.3 ) Pub Date : 2022-08-27 , DOI: 10.1016/j.apsusc.2022.154666
Ning Zhang , Yongsheng Wang , Zihao Chen , Bin Zhou , Jie Gao , Yanxia Wu , Yong Ma , Hongjun Hei , Shengwang Yu
|
通过RF磁控溅射制备具有顶层氮(N)掺杂的β - Ga 2 O 3薄膜。N掺杂顶层β - Ga 2 O 3参数（如氮气流速和退火气氛）、微观结构、光学性质的关系采用XRD、XPS、SEM、UV-VIS和PL对薄膜进行了研究。发现薄膜的晶体质量与N含量和退火气氛有关。薄膜表面光滑，平均粗糙度约为 2 nm。目前的薄膜在可见光区域内具有超过 85% 的高透射率，但带隙减小。所有这些薄膜都在 250 nm 的入射光下发射紫外光。此外，通过添加N元素，费米能级向价带移动，导致p型掺杂特性。
"点击查看英文标题和摘要"
京公网安备 11010802027423号