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通过与 AlGaN 相互作用调制 WS2 中的层内和层间谷激子
Science China Materials ( IF 6.8 ) Pub Date : 2022-08-18 , DOI: 10.1007/s40843-022-2138-x
Xinlong Zeng , Wenyu Kang , Xiaowen Zhou , Linglong Li , Yuanzheng Xia , Haiyang Liu , Chengbiao Yang , Yaping Wu , Zhiming Wu , Xu Li , Junyong Kang

二维材料中激子跃迁和谷极化过程的微调由于其丰富的谷对比物理而引起了巨大的研究兴趣。在这里,我们通过与具有不同掺杂水平的 AlGaN 耦合,展示了单层和双层 WS 2中高度可调的激子和谷特性。通过将 WS 2与 n 型 AlGaN连接观察到激子能量的显着红移。更有趣的是,由于双层 WS2 中 II 型带排列的形成,出现了层间激子峰。层间和层内激子能量均可通过双层 WS 2的扭转角进行调节。在单层 WS 2中实现了 82.2% 的高谷极化在 13 K 通过与 n 型 AlGaN 耦合,由于通过电子 - 声子相互作用的激子衰减速度更快,并且通过掺杂诱导的载流子筛选减少间隔散射。层间激子的谷极化高于层内激子的谷极化,这是由于电子-空穴相互作用减少导致的层间散射受到抑制。这项工作提出了一种简便有效的技术来调节二维材料的激子特性。报道的单层 WS 2中的高谷极化和双层 WS 2层间激子的发现将引发谷激子物理学的创新研究,并促进新兴的谷电子学应用。





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更新日期:2022-08-18
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