通过将金属 Mn 蒸发到 Ni（111） 表面，然后在 O2 气氛中退火来制备超薄 MnOx 薄膜。通过俄歇电子能谱 （AES） 、低能电子衍射 （LEED）、高分辨率电子能量损失谱 （HREELS） 和 X 射线光电子能谱 （XPS） 研究了表面的结构。在不同温度下通过退火/氧化形成明显不同的结构。通过在 840 K 下退火形成 Ni（111）-（√3 × √3）-R30° 单层结构。将退火温度提高到 950 K，观察到 HREEL 中的损耗特征明显不同，以及 Mn/Ni 的 AES 比低得多，这可以提出在 Ni（111） 上形成类 NiMnOx 界面结构。MnOx/Ni（111） 薄膜可以促进钝化 Ni 衬底再次氧化，不仅可以作为模型催化表面，还可以激发金属防腐的新思路。



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