当前位置：
X-MOL 学术
›
Photochem. Photobiol.
›
论文详情
Our official English website, www.x-mol.net, welcomes your
feedback! (Note: you will need to create a separate account there.)
用于产生单线态氧的吡咯并喹诺酮光敏剂的合成和光物理表征†
Photochemistry and Photobiology ( IF 2.6 ) Pub Date : 2022-07-28 , DOI: 10.1111/php.13681 Paul De Bonfils 1 , Catalina Sandoval-Altamirano 2 , Xavier Moreau 3 , Pierrick Nun 1 , Adèle D Laurent 1 , German Gunther 4 , Vincent Coeffard 1
Photochemistry and Photobiology ( IF 2.6 ) Pub Date : 2022-07-28 , DOI: 10.1111/php.13681 Paul De Bonfils 1 , Catalina Sandoval-Altamirano 2 , Xavier Moreau 3 , Pierrick Nun 1 , Adèle D Laurent 1 , German Gunther 4 , Vincent Coeffard 1
Affiliation
|
研究了一系列在杂环骨架上带有不同卤素取代基 (Cl、Br、I) 的吡咯并喹诺酮类光敏剂。这些结构很容易通过多步合成序列制备，涉及氧化方案作为获得喹诺酮框架的重要步骤。进行光谱表征和计算研究以研究氧化步骤前后的染料。有趣的是，氧化后荧光发射显着降低。尽管在紫外光下的光稳定性较低，但吡咯并喹诺酮光敏剂证明可有效产生单线态氧。具有较高原子序数的卤素原子的光敏剂获得了较高的单线态氧量子产率。
"点击查看英文标题和摘要"
更新日期：2022-07-28
"点击查看英文标题和摘要"
京公网安备 11010802027423号