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氧化物半导体器件的进展、挑战和机遇:从显示背板到 3D 集成半导体芯片等应用的关键构建模块
Advanced Materials ( IF 27.4 ) Pub Date : 2022-07-21 , DOI: 10.1002/adma.202204663
Taikyu Kim 1 , Cheol Hee Choi 1 , Jae Seok Hur 1 , Daewon Ha 2 , Bong Jin Kuh 2 , Yongsung Kim 3 , Min Hee Cho 2 , Sangwook Kim 3 , Jae Kyeong Jeong 1
Affiliation  

由于硅在进一步缩小尺寸方面面临着物理限制,二维过渡金属二硫属化物和氧化物半导体(OS)等新型半导体材料受到了极大的关注,以继续以摩尔定律为代表的不断要求的缩小尺寸。其中,OS被认为是最有前途的替代材料,因为它具有一些有趣的特性,例如适度的迁移率、极低的截止电流、良好的均匀性以及与传统互补金属氧化物半导体兼容方法的低温加工性。实际上,OS 已成功取代高端液晶显示设备中的氢化非晶硅,并且现已成为有机发光二极管显示器的标准背板电子器件,尽管距 2004 年发明时间还很短。新一代电子产品,例如单片 3D 集成中的后端晶体管应用,超出了显示应用的范围,但仍有很大的进一步研究空间​​,例如高迁移率、免疫短沟道效应、低电接触特性、本研究从材料科学和设备物理的角度回顾了操作系统的简史和设备应用的最新进展。同时,还讨论了下一代电子产品中使用的操作系统所面临的挑战和机遇。



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更新日期:2022-07-21
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