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二维 MoO2/MoS2 垂直异质结构的空间受限一步生长,用于碱性电解质中的卓越析氢
Small ( IF 13.0 ) Pub Date : 2022-07-16 , DOI: 10.1002/smll.202201051
Qinke Wu 1 , Yuting Luo 1 , Ruikuan Xie 2 , Huiyu Nong 1 , Zhengyang Cai 1 , Lei Tang 1 , Junyang Tan 1 , Simin Feng 1 , Shilong Zhao 1 , Qiangmin Yu 1 , Junhao Lin 3 , Guoliang Chai 2 , Bilu Liu 1
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基于 2D 材料的异质结构是通过堆叠或拼接单个 2D 层以在它们之间创建具有奇异特性的界面来构建的。在这里,开发了一种在厘米级衬底上原位生长大量二维异质结构的新策略。在该方法中,通过简单地调整金属前驱体和生长衬底之间的间隙距离,从而改变金属前驱体的浓度,在同一设置中可控地生长大量二维 MoS 2、MoO 2或其异质结构的 MoO 2 /MoS 2 。喂养。首先使用横向力显微镜来识别异质结构中每种材料的位置,其中 MoO 2在 MoS 2的顶部. 值得注意的是,与纯 MoO 2和 MoS 2相比,在原子薄 MoO 2(金属)和 MoS 2(半导体)之间创建干净的界面会导致不同的电子结构。理论计算表明,这种界面处的电荷再分布导致MoO 2 /MoS 2异质结构上的HER性能得到改善,在10 mA cm -2下显示出60 mV的过电位和47 mV dec -1的Tafel斜率。这项工作报告了一种在大规模基板上原位生长异质结构的新策略,并提供了开发其应用的平台。



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更新日期:2022-07-16
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