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免光刻、高密度 MoTe2 纳米带阵列
Materials Today ( IF 21.1 ) Pub Date : 2022-07-05 , DOI: 10.1016/j.mattod.2022.06.002
Ya Deng , Chao Zhu , Yu Wang , Xiaowei Wang , Xiaoxu Zhao , Yao Wu , Bijun Tang , Ruihuan Duan , Kun Zhou , Zheng Liu

二维 (2D) 材料已显示出一系列非凡的特性,包括超导性、拓扑状态和铁电性。其中,具有新兴特性的二维阵列因其在实现高密度电子器件和先进集成电路方面的巨大潜力而​​引起了人们的浓厚兴趣。大型二维元素阵列的可控合成提供了关键的进步,但仍未解决。在这里,我们报告了一种直接在普通 SiO 2上实现单晶 MoTe 2纳米带阵列的一步化学气相沉积 (CVD) 合成策略/Si基板,既不需要特殊的阶梯基板,也不需要后处理。发现无光刻合成条带排列良好,密度比 MoS 2中报道的高十倍。进一步的扫描透射电子显微镜(STEM)和第一性原理计算结果揭示了晶体结构促进的固-液-气(SLV)自蚀刻机制。我们的研究结果提供了一种方便的合成策略,以实现作为集成纳米级电子器件平台的高密度纳米阵列。





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更新日期:2022-07-05
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